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ASML可能卷入中美之间的科技战争
- 发布日期：2024-07-18 06:46 点击次数：172 ASML将继续努力成为最大的深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻设备供应商，并从中受益。然而，前面的道路有些崎岖不平。ASML似乎尽了最大努力，但有一个因素可能会破坏宴会。中国和美国卷入了一场所谓的“技术战争”。尽管美国在贸易战中对中国进口商品征收关税，但贸易战已经导致越来越多的中国科技公司受到美国政府的制裁。例如，华为今年5月被列为实体，这限制了其从美国公司获得供应的能力。然而，美国在与华为的竞争中并没有像许多人预期的那样成功。事实上，华为报告称，尽管被列入黑名单，但其第三季度收入增长了27%，部分原因是华为能够用中国设计的芯片取代美国的半导体芯片。然而，所有这些芯片设计必须在配备有光刻机的晶片工厂中制造，ASML光刻机是最常用的。这为美国政府开辟了一条道路。如果美国在与中国打交道方面不那么成功，它可能需要改变策略，试图阻止中国制造芯片。由于ASML的重要部分来自美国，美国可以通过阻止ASML设备的交付来削弱中国科技公司的实力。例如，Cymer提供了一个位于美国的光源。光源是光刻和光学透镜中最关键的部件之一。拒绝使用赛默光源可以在很大程度上说服ASML与美国政府合作。2018年下半年和2019年上半年，ASML对中国的销售额分别为8.49亿欧元和5.94亿欧元。中国是半导体设备增长最快的市场之一。限制在中国的销售将打击ASML。从长远来看，无力向中国销售可能会产生另一个影响。众所周知，中国正在开发自己的光刻设备。例如，中国在2018年公开了一台光刻机，声称一次曝光就能生产22纳米芯片。如果与其他分辨率增强技术(如多图形)结合使用，该机器可用于制造10纳米或7纳米的芯片。然而，由于需要大量掩模层，生产工艺可能成本太高，并且在经济上不可行。最不寻常的是，中国声称使用一台依靠365纳米波长光源完成所有这些工作的机器。机器将其置于NUV光谱范围内，接近可见光波长。相比之下，DUV通常依赖于193纳米的波长， 亿配芯城 而EUV依赖于13.5纳米的波长理论上讲，使用更长的波长可以降低机器的制造和运行成本。EUV面临的主要障碍之一是能够输出13.5纳米光的光源非常少，必须保持在真空中。这台中国机器的缺点是它的电流输出太低，不能用于晶圆厂。然而，可以解决每小时增加晶片数量的问题。事实上，这是中国研究人员提到的一个关键领域，他们打算在他们机器的更新版本中改进它。供应中断的威胁可能会导致中国加快引进这些新机器。这些机器可能无法与7纳米以上的EUV机器竞争，但它们可以与DUV机器竞争。如果是这样的话，ASML可能会在不久的将来与同行会面。结论ASML是光刻机的主要供应商，竞争日益激烈。在EUV时代，随着ASML成为EUV机器的唯一供应商，这一点可能会变得更加明显。预计ASML将受益于对先进半导体芯片需求不断增长的长期趋势，这些芯片只能在最先进的晶圆厂制造，这些晶圆厂必须配备ASML最新的光刻设备。然而，与中国的科技战争缺乏进展可能迫使美国探索新的战略，其中之一就是拒绝中国从ASML获得先进的光刻设备。中国对抗持续的时间越长，美国就越有可能尝试这种方法。这不仅会降低ASML在快速增长的市场中的销售额，还会创造新的竞争对手。如果ASML不再是关键设备的唯一供应商，牛市理论将被大大削弱，ASML可能不得不放弃自己的一些销售。自今年年初以来，该股已上涨逾70%。在这一点上，大多数好消息都应该被考虑在内。经过如此长时间的攀升，该股可能会出现回调，这可能是由美国政府对中国的出口限制引发的。话虽如此，牛市仍然适用于ASML。ASML在某个时候可能会失去一些市场份额，但它不应该中断大多数地方的业务。中国市场很大，但不是唯一的市场。从长远来看，ASML应该能够保持增长。随着时间的推移，前进的道路上会有一些困难，公司也可能通过爬上一段楼梯而陷入困境。
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