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满足中国市场推出新型半导体光刻机
发布日期:2024-03-12 07:09     点击次数:95

据《日经新闻》2月23日报道,由于中国客户强劲的采购需求,许多日本半导体设备制造商在中国市场的销售比例大幅上升,业绩良好。尽管面临国际贸易摩擦和出口限制,但这些日本公司仍然看到了中国市场的巨大潜力,并积极调整战略以适应新形势。

日本Nikon为满足中国市场推出新型半导体光刻机.jpg

日本最DA光刻机制造商Nikon(尼康)高级执行副总裁德成宗明,在中国市场需求激增的背景下,(Muneaki Tokunari)该公司最近收到了中国客户的“非常强烈的要求”。尽管面临出口限制,尼康还是坚持在遵守规则的前提下扩大业务,并准备在今年夏天推出新的I-line光刻机。虽然该设备已经推出了几十年,用于制造250nm以上的逻辑工艺,但它是尼康25年来的第一款I-line设备,显示了尼康对中国市场的重要性和投资。

与此同时,东京电子全球高级晶圆镀膜设备供应商(TEL)也在中国市场取得了显著成绩。据该公司称,截至2023年12月的三个月内,中国的销售额占总销售额的46.9%,创下了公司历史最高水平。河井俊树总裁(Toshiki Kawai)中国正在努力提高自给自足能力,预计中国晶圆制造客户的投资将在未来财年继续增长。

此外,晶圆清洗设备供应商日本迪恩士也受益于中国市场的强劲需求。上财年,中国销售占总销售额的44%,比上财年增长19%。虽然旧设备的利润通常低于先进的晶片设备,但仍能产生可观的利润。总裁后藤正人(Masato Goto)尽管企业遵守了政府的限制,但中国市场对企业来说仍然非常重要。

这些日本半导体设备制造商的成功经验表明,尽管面临国际贸易摩擦和出口限制,但只要企业能够灵活调整战略,积极适应市场需求,他们仍然可以在中国市场取得成功。随着中国半导体产业的不断发展和自给自足能力的提高,这些日本企业在中国市场的未来表现值得期待。

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