研制光刻机难度，比研制原子弹难多了
2024-10-16总有人说光刻机有什么难的？就算被封锁，凭我们自己的能力还造不出吗？在这里要特地说一下，研制光刻机，可比研制原子弹难多了。 中国崛起的过程异常艰难。不说远的，就说新中国成立后，这一路的艰辛就足够让我们落泪了。 自新中国成立以来，我们无时不刻遭到外国的技术封锁。从原子弹到航母，再到航天发动机，每一个难题都让我们费劲了周折。不过，好在这些困难最后都被勤劳又富有智慧的中国人克服了。 但是光刻机不一样。 总有人说：区区一个光刻机，有什么难的？难还能难过原子弹不成？ 还有人自大的表示：就算技术被封锁，以中
台积电豪抢EUV光刻机，加速启动7nm EUV量产
2024-08-23据快科技报道，今年ASML将EUV光刻机的年出货量从18台预计上升到30台。 来自产业链的最新消息称，台积电将包揽ASML这批EUV光刻机中的18台，加上先前的几台，可以在今年3月份启动7nm EUV的量产，推动7nm在其2019年晶圆销售中的占比从去年的9%提升到25%。 目前基于台积电7nm制程的芯片例如苹果A12，华为麒麟980等都只是7nm DUV制程，而DUV技术显然已黔驴技穷，无法满足更加先进的制程工艺需求。而此次台积电猛抢EUV光刻机想必在加速7nm EUV量产外还为5nm甚至更
日媒称ASML光刻机遭到“禁运” ASML和中芯国际双双否认
2024-07-19大约5天前，日本媒体《日经新闻》就荷兰光刻机供应商ASML断供中芯国际光刻机的事情进行了报道，报道援引多为ASML人士消息，阿斯麦尔（ASML）中止提供中芯国际光刻机，主要是担心刺激到美国。 该消息人士还称，延迟发货的主要原因来自于美国政府的压力，ASML暂缓中芯国际光刻机的交付是不想让美国政府对供应最先进设备给中国感到不安，毕竟EUV是目前最先进的芯片光刻机。 不过，ASML当事人第一时间内就向媒体澄清，日经新闻关于交货时程的报道是不实的，并对此进行严厉的谴责。同时ASML公司对外表示，暂缓
2019年全球光刻机市场分析
2024-07-01根据芯思想研究院（ChipInsights）的数据表明，2019年全球半导体、面板、LED用光刻机出货约550台，较2018年减少50台。其中半导体前道制造用光刻机出货约360台；半导体封装、面板、LED用光刻机出货约190台。 一、前道用光刻机情况 2019年ASML、Nikon、Canon三巨头半导体用光刻机出货359台，较2018年的374台减少15台，跌幅为4%。 从EUV、ArFi、ArF机型的出货来看，全年共出货154台。其中ASML出货130台，占有84%的市场，较2018年下降
2019年世界半导体光刻机产业情况
2024-07-01据芯思想研究院报道：2019年全球半导体、面板、LED用光刻机出货550台，同比下降8.33%，其中半导体前道制造光刻机出货约360台，半导体封装、面板、LED用光刻机约190台。 半导体前道制造光刻机厂商主要有三家ASML、NiKON、Canon，共出货359台，占65.3%，同比下降4.0%。 以EUV、ArFi、ArF机型来看，全年共出货154台。 ASML在2019年三季度推出EUV新机型NXE3400C，产能为175片/H，可满足7/5nm工艺要求，在2021年将推出NXE5000样
刚刚！一台荷兰ASML光刻机顺利进入中芯国际深圳厂区
2024-06-28据中芯国际官网介绍，其深圳厂区位于深圳市坪山区，一期200mm（8英寸）芯片代工厂可提供从0.35μm到90nm的晶圆制程服务。“深圳厂的成功扩产能够支持更多200mm产能需求，并满足日益增长的客户及市场的需求”。 另外，该公司总部位于上海张江高科技园区，在本地建有一座200mm芯片厂及一座300mm芯片厂，分别提供0.35μm到90nm，45/40nm到28nm的制程技术服务。 此前《羊城晚报》报道，3月4日，中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机顺利通过出口加工区场站两道闸口进入厂区。报道指出
ASML研发下一代EUV光刻机：分辨率提升70% 逼近1nm极限
2024-06-26在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。根据ASML之前的报告，去年他们出货了26台EUV光刻机，预计2020年交付35台EUV光刻机，2021年则会达到45台到50台的交付量，是2019年的两倍左右。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C，两者基本结构相同，但NXE:3400C采用模块化设计，维护更加便捷，平均维修时间将
新一代EUV光刻机将至：为什么ASML能称霸光刻机市场？
2024-06-26近日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）公司2019年的年报中披露了关于下一代EUV极紫光刻机的研发进程，预计2022年年初开始出货，2024年实现大规模生产。 新一代EUV光刻机分辨率提升70％ 据悉，新一代EUV光刻机EXE：5000系列，NA（数值孔径）为0．55，NA大小则代表了光刻机的精度高低，NA数值越大，光刻机精度更高。 现在ASML生产的EUV光刻机都是第一代产品，主要是NXE：3400B和改进型的NXE：3400C，两者结构相似，物镜系统的NA（数值孔径）为0．33。这意味着新
ASML90nm国内光刻机比照5nmASML,差别挺大
2024-06-22大家都知道世界最大的2个芯片代工企业是三星和台积电，虽然台积电和三星假如断供，像华为麒麟高端芯片将会便会偏瘫，但三星和台积电都没有自身的光刻机，只有跟西班牙ASML企业选购。从上年刚开始，华为手机刚开始被一些科技企业断供，如今又有信息扬言从芯片全产业链上限定，对于此事华为手机徐直军霸气侧漏答复称那麼iPhone在中国还要被禁卖。伴随着华为手机认知度提高后，台积电，ASML，中芯国际等公司也备受关注，许多网民关心国内光刻机发展趋势来到哪些程度，与ASML的差别也有是多少，接下去就说一说国内光刻机
在集成电路生产制造阶段,光刻机是最关键设备
2024-06-22在张江，这里有一条现阶段国内唯一对外开放的12英寸集成电路先进工艺产品研发和国内设备原材料点评认证小试线。因为集成电路全产业链长、各阶段工艺流程复杂、项目投资量大，单就生产制造阶段就包含了千余个流程，且设备、原材料等绝大多数为海外垄断性。如何破解这重重的副本，保持中国技术性提升，变成摆放在眼下的难点。在位于张江的上海市集成电路产品研发中心，这条对外开放的生产流水线协助中国的集成电路公司进行各种科学研究和工艺验证，在科技成果转化中，相互推动集成电路的国内生产制造的系统进程。 上海市区集成电路产品