半导体业拥抱EUV技术 代工厂资本支出直线攀升
2024-07-21台积电、英特尔和三星为打造体积更小、效能更强的处理器，纷纷导入极紫外光（EUV）技术，相关设备所费不赀，3家大厂资本支出直线攀升，ASML等设备厂则成为受益者。华尔街日报报导，晶圆代工大厂以最新制程挑战物理极限，需要EUV微影技术当帮手。与常用光源相比，采用EUV的系统能让芯片电路更加微缩，但先进晶圆厂建造成本也跟着水涨船高，台积电两年前宣布的新厂建造费用达200亿美元。关键在于EUV光刻器具价格高昂。ASML公布，第3季光售出7套EUV系统就进帐7.43亿欧元，等于每套系统要价超过1亿欧元。
三星华城EUV生产线量产 受韩国疫情波及三星股价下跌
2024-06-30据外媒消息，全球最大存储器芯片厂商三星电子在2月20日宣布，该公司位在韩国华城的新EUV半导体生产线已经开始量产。三星电子的V1工厂是该公司的第一条致力于紫外线（EUV）光刻技术的半导体生产线，并使用了7纳米一下的工艺制程，V1生产线于2018年2月东共，并于2019年下半年开始测试晶圆生产，第一批产品预计将于第一季度出货给客户。 V1工厂的生产线目前生产采用7纳米和6纳米工艺支撑的最先进的行动芯片，并将继续微缩至3纳米制程。该公司指出，EUV光刻技术的采用在近期以来变得越来越重要，将能为5G
泛林集团发布应用于EUV光刻的技术突破
2024-06-29泛林集团与阿斯麦 (ASML) 和比利时微电子研究中心 (imec) 共同研发的全新干膜光刻胶技术将有助于提高EUV光刻的分辨率、生产率和良率。上海 —— 今日，泛林集团 (Nasdaq：LRCX) 发布了一项用于EUV光刻图形化的干膜光刻胶技术。泛林集团研发的这项全新的干膜光刻胶技术，结合了泛林集团在沉积、刻蚀工艺上的领导地位及其与阿斯麦 (ASML) 和比利时微电子研究中心 (imec) 战略合作的成果，它将有助于提高EUV光刻的分辨率、生产率和良率。泛林集团的干膜光刻胶解决方案提供了显著
泛林和ASML研发EUV新技术 可减少90%光刻胶用量
2024-06-29近日，美国泛林公司宣布与 ASML 阿斯麦、 IMEC 比利时微电子中心合作开发了新的 EUV 光刻技术，不仅提高了 EUV 光刻的良率、分辨率及产能，还将光刻胶的用量最多降至原来的 1/10 ，大幅降低了成本。 泛林 Lam Research 的名字很多人不清楚， 前不久中芯国际宣布的 6 亿美元半导体设备订单就是购买的泛林的产品 。 泛林是一家美国公司，也是全球半导体装备行业的巨头之一，与应用材料、 KLA 科磊齐名， 2019 年营收 95 亿美元，在全球半导体装备行业位列第四，仅次于
ASML研发下一代EUV光刻机：分辨率提升70% 逼近1nm极限
2024-06-26在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。根据ASML之前的报告，去年他们出货了26台EUV光刻机，预计2020年交付35台EUV光刻机，2021年则会达到45台到50台的交付量，是2019年的两倍左右。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C，两者基本结构相同，但NXE:3400C采用模块化设计，维护更加便捷，平均维修时间将
新一代EUV光刻机将至：为什么ASML能称霸光刻机市场？
2024-06-26近日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）公司2019年的年报中披露了关于下一代EUV极紫光刻机的研发进程，预计2022年年初开始出货，2024年实现大规模生产。 新一代EUV光刻机分辨率提升70％ 据悉，新一代EUV光刻机EXE：5000系列，NA（数值孔径）为0．55，NA大小则代表了光刻机的精度高低，NA数值越大，光刻机精度更高。 现在ASML生产的EUV光刻机都是第一代产品，主要是NXE：3400B和改进型的NXE：3400C，两者结构相似，物镜系统的NA（数值孔径）为0．33。这意味着新
行业里程碑，DRAM进入EUV时代
2024-06-24三星电子昨儿发布，店家已成功付诸了100万个业界首个根据极紫外（EUV）技巧的10nm级（D1x）DDR4（Double Date Rate 4）DRAM模块。）。他俩指出，新的依据EUV的DRAM模块业已交卷了五洲客户评估，将为高端PC，移动，店铺服务器和数据中心施用中应用的更先进的EUV工艺节点打开院门。 三星电子DRAM成品与技术施行副总裁Jung-bae Lee意味：“趁热打铁依据EUV的新型DRAM的生产，咱们正值呈示俺们对提供批判性的DRAM解决方案以撑持咱们的海内IT客户的百分之
EUV光刻机耗电惊人
2024-05-26制造世界上最先进的半导体所需要的机器是现代工程学的奇迹。它们被称为极紫外光刻系统，或EUV光刻机，它们用人眼看不见的光波将硅片浸泡，将图案刻印在硅片表面的材料上，这些材料必须精确到几纳米。 为了产生这种特殊的光，EUV使用激光蒸发熔化的锡发出极端的紫外光波，然后使用镜子将辐射聚焦到芯片上。世界上只有ASML Holding NV一家公司生产的极紫外设备造价超过1.5亿美元，由10万个独立部件组成。EUV也是制造更小、更强大、更节能的半导体的主要驱动力。但它本身也是一个巨大的电源，每台机器消耗约
EUV光刻机遭砍单，ASML:半导体设备市场面临挑战
2024-05-084月17日据台系设备厂商透露，ASML近期面临着多重压力，包括销往中国大陆设备受限、存储、晶圆代工等客户大砍资本支出、缩减订单，以及大客户台积电大砍逾4成EUV光刻机设备订单和延后拉货时间等。这些因素导致ASML的2024全年业绩将明显承压。 另外，ASML的供应链也受到了影响。2022年中国大陆市场占ASML整体营收比重约14%。荷兰加入美国对中国大陆出口半导体设备实施限制后，对ASML产生了不小的影响。此外，英特尔、三星电子和台积电等大客户也在EUV设备的争夺中逐渐降温。大客户台积电甚至传
ASML为什么能在EUV领域获胜？
2024-01-182024年是ASML强势的一年。 ASML是半导体领域的领先公司之一，在行业中发挥着至关重要的作用。其股票表现历史非凡，过去五年显著增长了380%。尽管取得了这些成功，但其长期潜力仍存在不确定性的迹象。 最近的一些消息引发了人们对ASML EUV技术可持续性的怀疑，尤其是面对来自佳能等日本公司的竞争。此外，发布的2024年不太乐观的指引引发了对该公司的更多担忧。 在笔者看来，来自日本企业的竞争似乎并没有明显威胁ASML的市场主导地位。另一方面，尽管今年的指引可能显得不佳，但笔者仍然坚信，从长远